光刻机是半导体最核心的设备，是半导体制程的关键所在，需求方对技术的先进性和性能稳定性的追求，完全无法用低价格去进行平衡。

光刻机对技术的需求是极为刚性的，达不到最低的技术水平，根本就无法打动客户。只有最先进的设备，才能在市场上赚到钱。因此光刻机市场，往往是一家独大。

虽然略微次一级的光刻机生产厂商，依旧能够有客户，但那是因为客户本身的制程要求不高，太先进的产品技术冗余太多。但这种次一级厂商也只能吃点残汤剩菜。

未来几十年，半导体是技术演进最快的产业之一，在摩尔定律失效之前，几乎每隔量到三年，就会有一次大的技术升级。

当前全球半导体的制程还处在微米极，1.5微米的工艺就已经算是很先进的工艺了。

但很快就提升到亚微米级，从0.8微米开始，0.5微米、 0.35微米、0.25微米、0.18微米、到0.13微米。

而纳米级也并不遥远，从0.13微米开始，制程的计算单位就会换成纳米，从130纳米、到90纳米、65纳米、32纳米、28纳米、14纳米、7纳米，到陈兵重生时已经开始触及3纳米、2纳米。

短短四十年的时间，半导体的制程跨越了十几个技术等级，这种迭代的速度，在其他产业中，几乎是很少能够看的见的。

而这种技术迭代的过程，最核心的设备光刻机，也恰恰是推动半导体技术迭代的主要动力。

现在的光刻机技术，刚刚开始进入缩放投影光刻机的的时代，其实是刚刚踏上未来几十年技术竞赛的起跑线。

在没有进入缩放投影之前，光刻机都是1:1投影的，不需要特别复杂的光路设计、光学系统，不需要特别尖端的光源技术，也不需要精度特别高的工作台和校准系统。

这个时代的光刻机，其实算不上特别复杂，内地在这个时期与国际上的技术差距，也没有那么的明显。

但进入了缩放投影时代之后，光刻机的复杂就开始日渐提升了。

同样都叫光刻机，但以缩放投影为分隔点，分隔点前后的光刻机技术差异之大，甚至可以完全当成两种产品来看。

打个不那么恰当的比喻，1：1时代的光刻机竞争只是运动场上的预选赛，对于参赛的队伍，没有什么要求。而采用了缩放投影之后的光刻机竞争，才是进入了决赛的赛程。

内地70年代，积累的光刻机技术，取得的所谓成就，其实都是预选赛阶段的事情。但当决赛开始举行的时候，内地根本就没有参加了。

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