台积电87年才成立，起步时颇为艰难，90年代才开始真正走上正轨，而实现技术突破成为技术领导者，则是世纪之交的事情。

台积电与联电的风格差异非常的明显，大部分的核心人物都有在灯塔学习和工作的经历，甚至很多都是入了灯塔籍，纯粹在对岸成长起来的人才比例很低。

英豪现在走的同样是国际化道路，而且收购了INTEL的DRAM业务后，在灯塔有七家工厂，有研发中心，要招揽灯塔的华人，比历史上设在对岸的台积电更加的方便。

在台积电提升技术研发水平的过程中，有六个贡献卓越的人物，被合称台积电的研发六骑士，是奠定台积电技术根基的核心人物。

这六个人中，有四个都在这份名单之上，而且在名单上也都排的比较靠前，分别是林本坚、蒋尚义、梁孟松、孙元成。

这张名单上的人，都是超过了30岁，都是有足够行业经验和知名度的半导体人，另外两个人名单上没有，应该是还年纪太轻，尚未展露头角。

陈兵笑的嘴都合不上了，“先生，这张名单，我就拿走了，接下来，我就去一一拜访他们。”

“擦擦你的口水，你也是英豪这艘巨舰的掌舵人了，不要把贪婪摆在脸上。”潘文渊受到陈兵情绪的感染，也开起了玩笑。

陈兵最先拜访的是胡正明教授。

胡正明最着名的成就，就是发明了FinFET，（全称Fin Field-Effect Transistor，中文名叫鳍式场效应晶体管）。关于FinFET就不多做科普了，百度上相关的文章多的是。

普通的读者只要简单粗暴的知道，FinFET将原本晶体管二维结构，引向了立体的三维结构。

半导体制程进入到22n之后的，FinFET成为了被业界公认，继续推进制程进步的关键技术。

但其实胡正明的成就远不止这一个，他开发出FinFET已经是1999年的事情了，在这之前他就已经入选了灯塔工程院院士。

胡正明是 1947年在内地出生，在对岸大学毕业后，到灯塔继续深造，1976年开始，就在伯克利大学开始执教。

陈兵第一个拜访胡正明，到不是挖角来的，陈兵这次过来，是想要邀请胡正明做英豪的顾问，不需要他到英豪工作，只需要不定期的来交流一下，给英豪一些技术指导即可。

此时还是1984年，胡正明刚刚37岁，正是进行学术研究最巅峰的年纪，胡正明在学界才能发挥更大的作用，过早把他挖到业界，其实反而会耽误他的学术生涯。

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